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18101556626而导致芯片缺陷的因素十分复杂,其污染源可能来自空气中的粒子或加工过程中使用的各类工艺介质中的杂质、清洗用纯水中的杂质以及工具等带来的杂质污染等。
（5）生化区在设计时应关注生化机，生化机的更新换代速度很快，在设计前应与设备厂家联系，确定设备的摆放位置、规格、重量、功率、用水量等参数。
依据日本工业规范照度级别，中精密度操作定为200流明，而药厂操作不会超越中精密度操作，因而把低照度从≥300流明降到150流明是适合的，此项措施可显著节约能量。
正文二、空调净化系统空调净化的设计是与工艺的布局、生产的流程密切结合的。
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